日耗电3万度台积电计划关闭部分EUV光刻机：先进工艺过剩

EUV光刻机是半导体制造中的核心设备，只有ASML公司生产单台价格在10亿人民币左右之前，三星，TSMC和其他公司不得不争相购买可是，今年半导体的情况发生了变化相反，EUV光刻机计划关闭和省电，因为它消耗太多的电力

来自产业链源头手机芯片专家的消息称，伴随着先进制程产能利用率开始下降，且下降时间在评估后还会持续一段时间，TSMC计划从年底开始关停部分EUV设备，以节省EUV设备的巨额功耗。

根据消息显示，TSMC目前拥有约80台EUV光刻机，主要用于7纳米，5纳米及以下的先进工艺今年9月，它将量产3纳米工艺，所有这些都需要EUV掩模对准器但伴随着PC，手机，显卡等产品需求的下降，先进工艺生产的芯片势必会受到影响

今年苹果iPhone 14 Pro系列的A16处理器不急着用3nm工艺，还在用4nm工艺另外，因为3nm能效问题，苹果已经取消了原定的3nm芯片生产计划

与之前的DUV光刻机相比，EUV光刻机需要使用高能激光，光线会多次折射，损耗很大早期效率仅为0.02%现在量产可以做到2%的效率，但也意味着会消耗掉大部分的电力

《光刻机》中的EUV一天大约需要3万度电，一年大约消耗1000万度电，完全是一只电老虎。

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